1) mask-based lithography
有掩模刻蚀
2) etching mask
刻蚀掩模
1.
Photoresist was used as etching mask for HgCdTe inductively coupled plasma(ICP) enhanced reactive ion etching(RIE) process.
文章报道了HgCdTe微台面列阵ICP干法刻蚀掩模技术研究的初步结果。
2.
The etching mask for polymeric optical waveguide are systematically investigated.
主要针对聚合物波导制备中的关键技术———刻蚀掩模,进行了系统的研究。
3) Non-mask etch of n-GaAs
n-GaAs无掩模刻蚀
4) metal-etched photomask
金属腐蚀的光刻掩模
6) mask etching
掩模套刻
补充资料：模刻
1.照原样摹写镌刻。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条