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1)  Hydrogenated nanocrystalline silicon thin film/Crystalline heterostructure
氢化纳米硅薄膜/单晶硅异质结
2)  nc-Si/c-Si heterojunction MOSFET
纳米硅/单晶硅异质结MOSFET
3)  hydrogenated nanocrystalline silicon films
氢化纳米晶硅薄膜
4)  Nano-Si:H Films
氢化纳米硅薄膜
5)  hydrogenated nano-crystalline silicon thin films
氢化纳米硅(nc-Si,H)薄膜
6)  nano-crystalline silicon thin films
纳米晶硅薄膜
1.
Effect of hydrogen dilution on crystalline properties of nano-crystalline silicon thin films in fast growth
氢稀释对高速生长纳米晶硅薄膜晶化特性的影响
2.
Hydrogenated nano-crystalline silicon thin films(nc-Si∶H) with deposition rate of 0.
4nm/s速率制备出优质的氢化纳米晶硅薄膜。
补充资料:辐射探测器用硅单晶


辐射探测器用硅单晶
silicon crystal for radiation detector

fushe toneeqlyong guldonjrng辐射探测器用硅单晶(silieon crystal for ra-diation deteetor)用于X射线探测器的半导体材料。硅可用于制作结型、面晶型、锉漂移型等多种射线辐射探测器。虽然各种探测器都有自己的特殊要求,但其共同的要求是:碳含量低于2x1016/c m3;氧含量低于lxlo‘6/cm“;深能级杂质如铁、镍等低于1丁‘。g/g;少子寿命大于500娜;对微缺陷的种类与分布要进行控制等。这些单晶均用区熔法制成。为达到高纯的目的,要采用基磷与基硼含量很低的多晶,以硅烷法多晶为主。在成晶前需进行多次真空区熔提纯,提纯过程应避免碳等杂质的污染,并保持真空度不高于10一甲a。对n型高阻单晶,现在多采用中子擅变掺杂法以保证良好的均匀性。材料的适用性常以作出探测器的性能参数作为主要的判据。单晶的需求量不大。 (那云英)
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