1) surface treatment chemicals for positive resist
正型光刻胶表面处理剂
2) stripping chemicals for positive resist
正型光刻胶去膜剂
3) diluent for positive resist
正型光刻胶稀释剂
4) wash liquid for positive resist
正型光刻胶显影剂
补充资料：正型光刻胶表面处理剂
分子式：
CAS号：
性质：主要成分为六甲基硅胺烷及异丙醇，无色透明液体。易燃，可消除亲水氧化物表面的羟基，以增加胶膜与衬底表面的黏附性，适用于正型光刻胶涂敷前的表面处理。
CAS号：
性质：主要成分为六甲基硅胺烷及异丙醇，无色透明液体。易燃，可消除亲水氧化物表面的羟基，以增加胶膜与衬底表面的黏附性，适用于正型光刻胶涂敷前的表面处理。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条