1) electronic photometer
电子曝光计
2) electronic exposure
电子曝光
3) electron beam lithography
电子束曝光
1.
Research of figures with high aspect ratio made by electron beam lithography system;
利用电子束曝光系统制作高深宽比图形的研究
2.
Studies of energy dissipation distribution in low-energy electron beam lithography by Monte Carlo method;
Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律
6) electronic exposure meter
电子曝光表
补充资料：曝光计
分子式：
CAS号：
性质：又名露光计，曝光计。光化学中，用以测定光能的仪器。测定单位时间内射入的光子数，或者光束内的总光子数时用的一种化学体系或物理仪器。通常指在紫外及可见波段工作的仪器或化学体系。例如草酸合铁(III)酸钾K3Fe(C2O4)3的溶液可用于波长范围为254～579nm间的光能测定。在125℃以上时，丙酮也可用于气相光能测定。此外，(电阻)测辐射热仪、热堆和光二极管等仪器或器件也能给出与待测光子数相应的读数。
CAS号：
性质：又名露光计，曝光计。光化学中，用以测定光能的仪器。测定单位时间内射入的光子数，或者光束内的总光子数时用的一种化学体系或物理仪器。通常指在紫外及可见波段工作的仪器或化学体系。例如草酸合铁(III)酸钾K3Fe(C2O4)3的溶液可用于波长范围为254～579nm间的光能测定。在125℃以上时，丙酮也可用于气相光能测定。此外，(电阻)测辐射热仪、热堆和光二极管等仪器或器件也能给出与待测光子数相应的读数。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条