1) masked group
掩蔽原子团
2) atomic-proof hideout
防原子掩蔽部
3) masked group
掩蔽团
4) masking factor
掩蔽因子
1.
Secondly,the masking factor at each vertex based on an estimate of the averaged difference between the positions of connected vertices to the vertex is used for modification of the location of the vertices,and the strength of the watermark signal is adaptive with re.
首先将三维三角网格模型进行仿射变换,以获得模型的旋转不变性和缩放不变性;然后将各顶点邻域内顶点位置的平均差值作为掩蔽因子确定水印嵌入的强度,使得嵌入的水印具有不可见性。
2.
Second, the masking factor at each point based an estimate of on average difference between positions of connected vertices to a vertex is used for modifying imperceptibly the location of vertices.
该算法首先将三维网格模型进行仿射变换,以获得模型的旋转不变性、缩放不变性;然后,根据各顶点邻域内顶点位置的平均差值作为掩蔽因子确定水印嵌入的强度,使得嵌入的水印具有不可见性。
5) masked reactive group
掩蔽的反应基团
6) sheltering the interference ions
掩蔽干扰离子
补充资料：原子团
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：几个原子结合而成的一个集团。在许多反应中作为一个整体参加。有基、根、离子、官能团和自由基等。
分子量：
CAS号：
性质：几个原子结合而成的一个集团。在许多反应中作为一个整体参加。有基、根、离子、官能团和自由基等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条