1) rigid transmission mask
硬透射掩模
2) see through photomask
透免掩模
3) light transmitting photomask
光透射掩膜
4) reflective mask
反射掩模
1.
In this paper,extreme ultraviolet lithography technique is analyzed from the aspects of extreme ultraviolet light source,extreme ultraviolet optical system,reflective mask,resist,stepper,i.
本文从极端远紫外光源、极端远紫外光学系统、反射掩模、光刻胶、光刻机等方面对极端远紫外光刻技术进行了分析论述 ,并且对它的应用前景进行了简要分
5) oxygen impermeable mask
不透氧掩模
6) X-ray mask
X射线掩模
1.
In this paper,the home-made x-ray mask fabri-cation process is introduced firstly,then a two layer resists method which is used to fabricate deep-submicron T-shaped gate and some initial research results are described,and the domestic deep-submicron lithography status is analyzed .
本文中我们首先对我们的x射线掩模制造工艺进行介绍,然后论述了一种用于制造深亚微米T形栅的两层胶工艺,介绍了所取得的一些研究结果,最后对国内的深亚微米光刻现状进行了简要分析。
补充资料：光学掩模版
分子式：
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
CAS号：
性质： 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条