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1)  Thin film monitoring
薄膜监控
2)  thin_film thickness monitoring
薄膜厚度监控
1.
In use of wideband thin_film thickness monitoring during the deposition of layers,whether success or failure of the process depends on correct calculation of the estimate function.
实验结果表明,薄膜厚度监控误差可以达到10-3以下,效果良好,完全可以满足实际需要。
3)  optical thin film monitoring
光学薄膜监控
1.
Initialization parameters used in infrared optical thin film monitoring system, including input coatings, monitoring mode, monitoring wavelength, material coefficients, slice options,etc.
本文对红外光学薄膜监控系统研究中的初始化参数 ,包括输入膜系、监控方式、监控波长、材料系数、比较片选项、控制速率和进程膜系以对话框的形式给出 ,用户在输入参数时程序对用户的输入进行自动监视 ,确保用户能正确地输入各个参数 ,使光学薄膜的自动监控提供安全机制 ,本文还给出了上述自动监视的相应算法 。
4)  quartz,crystal thin film monitor
石英晶体薄膜监控器
5)  thermal control film
热控薄膜
6)  light control film
光控薄膜
补充资料:塑料薄膜的厚度测量和控制
薄膜厚度测量 塑料薄膜的种类很多,如PE、PP、PVC、PA、PET薄膜等;其厚度范围可由几微米到几百微米;其应用领域涉及包装材料、绝缘材料、感光材料、磁带基材、农用薄膜、玻璃贴膜等。普通的塑料薄膜基本上是采用吹塑、压延等成型工艺生产的,如聚乙烯膜、聚氯乙烯膜,它们的生产速度较低,厚度均匀性要求也不太高,故可在线进行接触式厚度测量。但是对于双向拉伸薄膜来说,由于双拉生产线是一个高速、连续化生产的过程,其线速度高达300m/min以上,双向拉伸薄膜的厚度,都是采用精度很高、非接触式测厚仪和反馈控制系统进行自动检测和控制。 最常用的非接触式的厚度测量仪有: X-射线测厚仪、β-射线测厚仪、近红外线测厚仪等。 近红外线测厚技术 该技术的原理是:利用不同物质对近红外光线(1.0~3.0μm)的吸收特性来连续测量物质厚度。当红外线穿过塑料薄膜时,有一部分红外光线被薄膜选择性地吸收,这种选择性吸收与波长有关。其波长为该薄膜的吸收波长。另一部分很少或不被塑料薄膜所吸收,称之为一般吸收,它几乎与波长无关。我们选择对薄膜具有强力吸收的3.4μm吸收波长和对薄膜不吸收的3.1μm参比波长,依据贝耳吸收定律,比较吸收波长和参比波长的信号变化,就可获得薄膜材料的厚度值。例如,NDC公司近红外NDC710型传感器具有以下性能特点: ·测量精度高,具有快速测量和高分辨率的特点; ·测量稳定,不受环境温度影响; ·薄膜在传感器间隙内抖动仍能保持对厚度测量的高精度; ·采用不同物质具有不同吸收波长的原理,可测量多层共挤材料每一层的厚度。 β测厚仪的测厚技术 β测厚仪是一种放射性同位素仪器,它利用Kr85或Pm放射源放射出的低能量β射线穿过薄膜后被部分吸收而减弱的原理对塑料薄膜进行测量。 β测厚仪系统由测量头、扫描架和控制柜等组成。 1、测量头:由放射源盒、电离室、高压电源、微电流放大器及空气温度补偿电路等组成。 a放射源盒为放置放射源的容器。其材质为铅,在放射源盒上方有一电动或气动闸门以控制放射源是否放出β射线。在停机时,闸门能自动关闭,以保证安全。 b电离室:穿过薄膜的β粒子进入电离室使其中气体电离产生正负离子。在负高压的电场作用下,正离子向负高压极运动,负离子向正高压极运动,在外电路作用下产生微电流。此微电流非常小,只有10-8 ~10-10A。这就要求绝缘端子的电阻很高,达1018 Ω。为此,可采用PTFE材料。电离室内一般充有压力高于周围大气压的高纯度N2气。 c 高压电源:电离室要求要有450~700V的高压电源,并要求电压值稳定。 d微电流前置放大器实质上是一个高输入阻抗的电源电压变换器,输入阻抗大于1012Ω。反馈电阻为高电阻。一般为了保持其电阻值稳定,可将其置于恒温槽中。 e 温度补偿电路 β-射线在到达电离室之前,除了穿透薄膜还要穿透空气。而空气温度变化时,空气的密度也随之变化。在0℃和760mmHg柱时,空气的密度是0.00129g/周。而温度每升高1℃,体积大约增加其0℃时的1/273,即空气的密度减小1/273。为了克服温度变化带来的误差,装有温度补偿电路,对气隙的温度进行测量,温度传感器一般采用AD590。 2、扫描架:扫描架分O型架和C型架两种。扫描架是支撑测量头在整幅薄膜宽度范围内往返扫描的机构,其精度直接影响测量精度。扫描架的精度又取决于轨道的精度。传动方式一般采用同步齿型带。 为了获得测量头在薄膜宽幅中的位置,设有位移测量装置,大都采用光电编码器。 3、控制柜:控制柜的作用主要是完成对薄膜厚度信号、测量头的位移信号以及温度信号进行采样,经过处理后形成形象的薄膜截面图,控制测量头的扫描,并定时对放射源进行校零。
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参考词条