说明:双击或选中下面任意单词,将显示该词的音标、读音、翻译等;选中中文或多个词,将显示翻译。
您的位置:首页 -> 词典 -> 真空溅射法
1)  electric central heating
真空溅射法
2)  Vacuum sputtering
真空溅射
1.
The Cr-Cu/ Al 2O 3/ZnS /Ag films grown on glass substrate by the way of vacuum sputtering, the fabrication technology on electron emission properties are studied, and the optimum technical parameter is obtained.
介绍了一种用于场致发射显示的平面多层膜电子发射结构的制作过程 ,采用真空溅射的方法镀制玻璃衬底 Cr-Cu Al2 O3 ZnS Ag结构的平面电子源 ,对其发射性能进行了论述 ,并取得优化发射性能的工艺参
3)  vacuum sputter
真空溅射
1.
In this paper, with the technology of vacuum sputter, pure aluminum corrosion sensitive film was directly deposited on the core of optical fiber with its clad removed.
用清水反复清洗浸蚀后的光纤,晾干后进行真空溅射镀膜。
2.
The technics of fabricating pure Al corrosion sensing film with vacuum sputter were groped.
探索了利用真空溅射技术在光纤纤芯上沉积纯铝腐蚀敏感膜的工艺。
4)  vacuum sputtering plating machine
真空溅射镀膜机
5)  vacuum magnetron sputtering
真空磁控溅射
1.
With vacuum magnetron sputtering method, SnO2 film with thickness of 50~70nm was deposited on the polished quartz Pyrex substrate firstly.
在现有的粉末烧结型SnO2基气敏传感器基础上研制了薄膜型SnO2基气体传感器,以抛光的耐热石英玻璃为基片,真空磁控溅射50~70nm厚度的SnO2薄膜,在SnO2薄膜上分别溅射不连续的ZnO、Al2O3、CeO2、InO2等薄膜,传感器背面溅射30μm的Ni80Cr20电阻合金作为传感器加热电阻,用薄膜热电偶测量传感器工作温度。
2.
The infrared absorptance,reflectance and transmittance of the A1/Pb multilayer films made by vacuum magnetron sputtering were investigated using ultraviolet-visible-near infrared spectrophotometer and Fourier transform infrared spectrophotometer.
利用紫外-可见-近红外分光光度计和傅立叶红外光谱仪分析了用真空磁控溅射技术制备的Al/Pb金属多层膜的对红外光的吸收、反射和透射。
6)  ion sputter coating
真空离子溅射
补充资料:动态流导法真空标准装置


动态流导法真空标准装置
vacuum standard system by continuous flow through an orifice

  由ngtai liudcofa zhenkor均bicozhun zhuan平hi动态流导法真空标准装t(vac~stand山dsysteyn场continuous flowthI’OL吵an orifice)又称小孔法或泻流法,是由动态平衡产生已知压力来对泵乃夕 单级动态流导法标准装1原理示意图真空计G进行校准或分度的方法。图为单级动态流导法标准装置的原理示意图。由可调针阀引人到校准室的流量为口的气体通过流导为c的小孔到抽气室,最后被抽速为S的真空泵抽走。当进人校准室的气体量与通过小孔被抽除的气体量相等时,校准室内有一平衡压力p,相应地,抽气室内有一平衡压力p。。若s》c,则p》p。。可根据气体等温连续性原理,得到p的计算公式为: P=Q/C小孔流导C值,在分子流条件下可根据其几何尺寸算出。由针阀调节的不同流量Q(用流量计侧得),在校准室内可得到不同的p值。通常要求泵的抽速S远比小孔的流导C值要大,以减少抽速测定值误差的影响及抽速波动的影响。采用多级小孔分流的设计可扩大校准下限。动态流导法只适用于分子流条件,即气体分子之间碰撞几乎不存在的情况,这也是该法校准上限受限制的原因。动态流导法的优点在于减少了被校真空计规管的吸放气效应的影响,是目前高真空和超高真空范围的主要的校准手段。中国建立的动态流导法真空标准装置的测量范围为10一’Pa一10一ZPa,扩展不确定度在10一“Pa一10一ZPa时为5%,在10一,Pa时为10%。(转葱丈)
  
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条