3) sputtering
[英]['spʌtə] [美]['spʌtɚ]
溅射法
1.
Survey and Determination of Magnetization Curve and GMR of Sputtering-formed Granular Films Fe-Al-O;
溅射法制作的Fe-Al-O颗粒薄膜的磁化曲线及巨磁阻曲线的测定
2.
In this paper,we studied the magnetostriction of amorphous Tb-Fe silica baseplate thin film that prepared by sputtering at room temperature.
本文研究由溅射法制备的非晶态Tb-Fe硅基薄膜在室温下的磁致伸缩特性,从中找到一种在低磁场下仍具有较大磁致伸缩性的材料。
3.
Finally,it also discusses the possibility to fabricate graded-bandgap CdTe solar cells by using the sputtering metho
简单综述了化合物半导体碲化镉太阳能电池的发展历史、基本结构和核心问题,在此基础上重点总结了用溅射法制备的多晶碲化镉薄膜太阳能电池的优缺点、面临问题、发展现状,展望了它的发展趋势,并讨论了用溅射法制备渐变带隙碲化镉薄膜太阳能电池以提高转化效率的可能性。
5) sputtering methods
溅射方法
1.
Effect of sputtering methods on the magnetic properties and microstructure of FePt∶Ag magnetic granular thin films;
溅射方法对FePt∶Ag颗粒膜磁性能及微观结构的影响
6) R.F. Sputtering
RF溅射法
补充资料：磁控溅射
分子式：
CAS号：
性质：用一个环形永久磁体在乎板形靶上产生环形磁场，在磁场作用下，电子被约束在一个环状空间内，形成高密度的等离子环。在等离子环内，电子不断地使Ar原子变成Ar离子，Ar离子被加速后打向靶表面，把靶内的原子溅射出来，沉积在基片上形成薄膜。若靶材为导体，溅射电源可用直流或射频电源，如靶材是绝缘体，则必须用射频电源。用多源共溅射加后处理法可制备双面薄膜。将基片放置在靶中心线上，称为正轴溅射，基片放在靶轴线外；称为偏轴溅射。磁控溅射是广泛采用的制膜方法。
CAS号：
性质：用一个环形永久磁体在乎板形靶上产生环形磁场，在磁场作用下，电子被约束在一个环状空间内，形成高密度的等离子环。在等离子环内，电子不断地使Ar原子变成Ar离子，Ar离子被加速后打向靶表面，把靶内的原子溅射出来，沉积在基片上形成薄膜。若靶材为导体，溅射电源可用直流或射频电源，如靶材是绝缘体，则必须用射频电源。用多源共溅射加后处理法可制备双面薄膜。将基片放置在靶中心线上，称为正轴溅射，基片放在靶轴线外；称为偏轴溅射。磁控溅射是广泛采用的制膜方法。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条