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1)  RF_sputtering
RF溅射方法
2)  R.F. Sputtering
RF溅射法
3)  RF sputtering
RF溅射
4)  RF/DC sputtering
RF/DC溅射
1.
Research on microstructure and mechanics properties of 316L stainless steel/SiO_2 ceramic composite film prepared by RF/DC sputtering;
RF/DC溅射316L/SiO_2复合膜力学性能与显微结构的研究
5)  RF co sputtering
RF共溅射
6)  RF-sputtering
RF-溅射
补充资料:Rf-COOH-Rf-SO3H 
分子式:
CAS号:

性质:又称全氟羧酸-磺酸复合离子膜  Rf-COOH-Rf-SO3H  电解食盐水溶液离子膜电解槽所用的膜材料之一。使用时,将较薄的羧酸层面向阴极,较厚的磺酸层面向阳极,因而兼有羧酸膜和磺酸膜的优点。由于Rf-COOH层的存在,可阻挡氢氧离子返迁移到阳极室,确保了高的电流效率(96%),因Rf-SO3层的电阻低,能在高电流密度下运行,且阴极液可用盐酸中和,产品氯气中氧含量低,氢氧化钠浓度可达33%~35%。可在全氟磺酸膜上涂敷一层全氟羧酸的聚合物,或是将磺酸膜和羧酸膜进行层压,或是采用化学方法处理而制得的复合膜。现以采用化学方法处理者质量最佳。

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