1) aluminium nitride film
氮化铝膜
4) AlN film
氮化铝薄膜
1.
Preferential orientation AlN films by RF reactive magnetron sputtering;
磁控反应溅射制备择优取向氮化铝薄膜
6) preparation of AIN film
氮化铝薄膜制备
补充资料：氮化铝膜
分子式：
CAS号：
性质：用气相沉积、液相沉积、表面转化或其他表面技术制备的氮化铝覆盖层。氮化铝的电阻率高(1012Ω·cm)，热膨胀系数低，硬度高，化学稳定性好，而且热导率也很高(3.2W·cm-1·K-1)。氮化铝在整个可见光和红外频段都具有很高的光学透射率。这些性能都使氮化铝膜在微电子和光电子器件、衬底材料、绝缘层材料、封装材料上有着广阔的应用前景。它可用作声表面波器件，此外，氮化铝还具有良好的耐磨损和耐腐蚀性能，可用作防护膜。
CAS号：
性质：用气相沉积、液相沉积、表面转化或其他表面技术制备的氮化铝覆盖层。氮化铝的电阻率高(1012Ω·cm)，热膨胀系数低，硬度高，化学稳定性好，而且热导率也很高(3.2W·cm-1·K-1)。氮化铝在整个可见光和红外频段都具有很高的光学透射率。这些性能都使氮化铝膜在微电子和光电子器件、衬底材料、绝缘层材料、封装材料上有着广阔的应用前景。它可用作声表面波器件，此外，氮化铝还具有良好的耐磨损和耐腐蚀性能，可用作防护膜。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条