1) liquid polishing agent
液体抛光剂
2) solid polishing agent
固体抛光剂
1.
Several kinds of solid polishing agents applied to different polishing process have been made experimentally, using fat and oxide or carbonide as material, and adding some additives.
以油脂类、氧化物或碳化物为原料 ,添加适量的添加剂 ,研制不锈钢制品固体抛光剂。
3) jet polishing
液体喷射抛光
1.
The fluid jet polishing was introduced.
介绍了标准的液体喷射抛光实验,提出了近壁面附近固液两相流中的颗粒作用导致的流体摩擦剪切去除材料的机制假设,然后通过实验研究了抛光时间、样品表面初始粗糙度、喷头形状、喷射距离、喷射压力和pH值对抛光结果的影响。
4) slurry
[英]['slʌri] [美]['slɝɪ]
抛光液
1.
Study on the performances of polishing slurry in chemical mechanical polishing;
CMP抛光半导体晶片中抛光液的研究
2.
Preparation of ultra-fined Al_2O_3 slurry and its polishing properties on disk CMP;
超细氧化铝抛光液的制备及其抛光特性研究
3.
Tantalum barrier layer of copper interconnection in ULSI and optimization of CMP slurry;
ULSI多层铜布线钽阻挡层及其CMP抛光液的优化
5) polishing slurry
抛光液
1.
According to the analysis of the structure of polishing pad,polishing machine and polishing slurry,the merits of fixed abrasives (FA)CMP were presented.
经过对传统化学机械抛光技术的研究与分析,指出了目前ULSI制造中使用的传统化学机械抛光技术的缺点,通过对固结磨料化学机械抛光中的抛光垫结构、抛光机原理及抛光液的分析,得出了固结磨料化学机械抛光技术的优点,同时还对硅片固结磨料化学机械抛光的缺陷进行了研究。
2.
Based on the analysis of mechanism of silicon polishing, this paper discusses the influence of polishing slurry on polishing quality.
在分析硅衬底的抛光机理的基础上,主要讨论了抛光液对硅衬底抛光质量的影响,同时对抛光液中各成分的选择作了分析研究,采用不含钠离子的有机碱和高效的无钠螯合剂减少了金属离子的玷污,对活性剂影响吸附的作用机理进行了分析,得到了一种小粒径、高速率和低损伤的无钠抛光液。
3.
Many factors may affect LiNbO3 CMP,such as polishing slurry,polishing pad and polishing technological parameters.
影响LiNbO3化学机械抛光速率的因素很多,如抛光液组成、抛光垫质量、抛光工艺参数等。
6) polishing solution
抛光液
1.
Through experiment and analysis, different types of suitable polishing solutions to improve productivity and the quality of polished surface were proposed.
通过实验分析,找到适合不同种类光学玻璃的抛光液类型,以有效提高抛光效率,改善抛光表面质量。
2.
Under the same experimental condition(same polishing time,temperature and sapphire concentration),four groups of CdSe wafers were polished using four different polishing solutions.
采用相同温度、刚玉粉、抛光时间和不同方式配制成抛光液,对4组CdSe晶片进行抛光。
补充资料：指甲抛光剂
分子式：
CAS号：
性质：为了使指甲表面有光泽，有时需将指甲表面的凹凸不平的条痕用麂皮磨光，在磨光时使用的抛光剂称为指甲抛光剂。其主要成分为氧化锡、硅粉、硬脂酸丁脂、颜料、香料等。
CAS号：
性质：为了使指甲表面有光泽，有时需将指甲表面的凹凸不平的条痕用麂皮磨光，在磨光时使用的抛光剂称为指甲抛光剂。其主要成分为氧化锡、硅粉、硬脂酸丁脂、颜料、香料等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条