2) magnetorheological jet polishing
磁射流抛光
1.
Magnetorheological jet polishing(MJP)is a new deterministic precision finishing technology.
磁射流抛光技术是一种新型的确定性精密抛光方法。
2.
The effects on material removal of MJP(Magnetorheological Jet Polishing) by several parameters were given.
研究了磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响。
3) magnetorheological jet
磁流变液射流
1.
In magnetorheological jet polishing(MJP),the stable and collimated jet of magnetorheological(MR) fluid magnetized by a local axial magnetic field near the exit of the nozzle was used to polish the remote surface in a deterministic precision process.
磁射流抛光利用喷嘴出口附近的外加局部轴向磁场稳定磁流变液射流,产生稳定、汇聚的射流束进行远距离确定性精密抛光。
4) DC magnetron co-sputtering
直流磁控共溅射
5) DC magnetron sputtering
直流磁控溅射
1.
Microstructures and Properties of Tantalum Film Grown by DC Magnetron Sputtering;
直流磁控溅射沉积钽膜的结构与性能研究
2.
Effects of thickness on microstructure and properties of Niobium films deposited by DC magnetron sputtering;
膜厚对直流磁控溅射Nb薄膜微结构的影响
3.
Optical and electrical properties of ITO thin films deposited by DC magnetron sputtering at room temperature;
室温直流磁控溅射制备ITO膜及光电性能研究
补充资料：磁铅石型旋磁铁氧体
分子式：
CAS号：
性质：晶体结构和天然磁铅石Pb(Fe7.5Mn3.5A10.5Ti0.5)19类似的铁氧体称为磁铅石型铁氧体。其结构对称性较尖晶石型的为低。其中晶体具有各向异性大、矫顽力高的六角晶系铁氧体，称为磁铅石型微波铁氧体。主要有M型(BaFe12O19)和W型(BaM2+2Fel6O27)，M为锰、钴、镍、锌、镁等二价金属离子。通过离子代换部分Ba2+，可获得BaO-MO-Fe2O3三元系的磁铅石型复合铁氧体，并可使各向异性场在一定范围内变化。制造方法可用一般磁性瓷生产工艺，热压烧结或气氛烧结制成。用于微波频段，可制成隔离器、相移器、调制器、环行器等线性器件和倍频器、限幅器、振荡器、混频器、参量放大器等非线性器件。是发展现代微波技术的重要材料。
CAS号：
性质：晶体结构和天然磁铅石Pb(Fe7.5Mn3.5A10.5Ti0.5)19类似的铁氧体称为磁铅石型铁氧体。其结构对称性较尖晶石型的为低。其中晶体具有各向异性大、矫顽力高的六角晶系铁氧体，称为磁铅石型微波铁氧体。主要有M型(BaFe12O19)和W型(BaM2+2Fel6O27)，M为锰、钴、镍、锌、镁等二价金属离子。通过离子代换部分Ba2+，可获得BaO-MO-Fe2O3三元系的磁铅石型复合铁氧体，并可使各向异性场在一定范围内变化。制造方法可用一般磁性瓷生产工艺，热压烧结或气氛烧结制成。用于微波频段，可制成隔离器、相移器、调制器、环行器等线性器件和倍频器、限幅器、振荡器、混频器、参量放大器等非线性器件。是发展现代微波技术的重要材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条