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1)  film vapor deposition
薄膜气相沉积
2)  thin film deposition
薄膜沉积
1.
Fresnel lens fabricated by thin film deposition;
薄膜沉积法制作菲涅耳透镜
2.
A novel technique-anodic vacuum arc coating for thin film deposition is reviewed in this paper.
本文介绍了一种新的薄膜沉积方法──阳极真空电弧镀膜法。
3.
The 16-step Fresnel lens had been fabricated by thin film deposition and ion beam etching and it has been used in refractive-diffractive CCD camera.
使用薄膜沉积法和离子束刻蚀法制作16阶菲涅耳透镜,应用于折衍混合CCD相机。
3)  film deposition
薄膜沉积
4)  CVD diamond films
化学气相沉积金刚石薄膜
5)  sedimental CeO 2 film
沉积CeO2薄膜
6)  As-deposited film
沉积态薄膜
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:

性质:PCVD  化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。

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